Effect of V concentration in TiSiN monolayer coating on chip formation mechanism and chip sliding velocity during dry turning of Ti–6Al–4V alloy

  1. Kumar, C.S.
  2. Urbikain, G.
  3. De Lucio, P.F.
  4. Pérez-Salinas, C.
  5. De Lacalle, L.N.L.
  6. Fernandes, F.
Revista:
Journal of Materials Research and Technology

ISSN: 2214-0697,  2238-7854

Año de publicación: 2024

Volumen: 32

Páginas: 4456-4464

Tipo: Artículo

DOI: 10.1016/J.JMRT.2024.09.007 GOOGLE SCHOLAR lock_openAcceso abierto editor
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