A universal parameter for silicon anisotropic etching in alkaline solutions

  1. Cheng, D.
  2. Gosálvez, M.A.
  3. Shikida, M.
  4. Sato, K.
Actes de conférence:
Proceedings of the IEEE International Conference on Micro Electro Mechanical Systems (MEMS)

ISSN: 1084-6999

ISBN: 9780780394759

Année de publication: 2006

Volumen: 2006

Pages: 318-321

Type: Communication dans un congrès

DOI: 10.1109/MEMSYS.2006.1627800 GOOGLE SCHOLAR