A universal parameter for silicon anisotropic etching in alkaline solutions

  1. Cheng, D.
  2. Gosálvez, M.A.
  3. Shikida, M.
  4. Sato, K.
Actas:
Proceedings of the IEEE International Conference on Micro Electro Mechanical Systems (MEMS)

ISSN: 1084-6999

ISBN: 9780780394759

Año de publicación: 2006

Volumen: 2006

Páginas: 318-321

Tipo: Aportación congreso

DOI: 10.1109/MEMSYS.2006.1627800 GOOGLE SCHOLAR
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