Improvement in smoothness of anisotropically etched silicon surfaces: Effects of surfactant and TMAH concentrations
- Cheng, D.
- Gosálvez, M.A.
- Hori, T.
- Sato, K.
- Shikida, M.
ISSN: 0924-4247
Año de publicación: 2006
Volumen: 125
Número: 2
Páginas: 415-421
Tipo: Artículo