Improvement in smoothness of anisotropically etched silicon surfaces: Effects of surfactant and TMAH concentrations

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Revista:
Sensors and Actuators, A: Physical

ISSN: 0924-4247

Año de publicación: 2006

Volumen: 125

Número: 2

Páginas: 415-421

Tipo: Artículo

DOI: 10.1016/J.SNA.2005.08.022 GOOGLE SCHOLAR