Removal probability function for Kinetic Monte Carlo simulations of anisotropic etching of silicon in alkaline etchants containing additives

  1. Zhang, H.
  2. Xing, Y.
  3. Gosálvez, M.A.
  4. Pal, P.
  5. Sato, K.
Revista:
Sensors and Actuators, A: Physical

ISSN: 0924-4247

Año de publicación: 2015

Volumen: 233

Páginas: 451-459

Tipo: Artículo

DOI: 10.1016/J.SNA.2015.07.031 GOOGLE SCHOLAR
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