Removal probability function for Kinetic Monte Carlo simulations of anisotropic etching of silicon in alkaline etchants containing additives

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Revista:
Sensors and Actuators, A: Physical

ISSN: 0924-4247

Año de publicación: 2015

Volumen: 233

Páginas: 451-459

Tipo: Artículo

DOI: 10.1016/J.SNA.2015.07.031 GOOGLE SCHOLAR

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