Removal probability function for Kinetic Monte Carlo simulations of anisotropic etching of silicon in alkaline etchants containing additives

  1. Zhang, H.
  2. Xing, Y.
  3. Gosálvez, M.A.
  4. Pal, P.
  5. Sato, K.
Aldizkaria:
Sensors and Actuators, A: Physical

ISSN: 0924-4247

Argitalpen urtea: 2015

Alea: 233

Orrialdeak: 451-459

Mota: Artikulua

DOI: 10.1016/J.SNA.2015.07.031 GOOGLE SCHOLAR

Garapen Iraunkorreko Helburuak

Datuen iturria: Scopus