Adsorption of metal impurities on H-terminated Si surfaces and their influence on the wet chemical etching of Si

  1. Hynninen, T.
  2. Foster, A.S.
  3. Gosálvez, M.A.
  4. Sato, K.
  5. Nieminen, R.M.
Revista:
Journal of Physics Condensed Matter

ISSN: 0953-8984,  1361-648X

Año de publicación: 2008

Volumen: 20

Número: 48

Tipo: Artículo

DOI: 10.1088/0953-8984/20/48/485005 GOOGLE SCHOLAR
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