Hydrogen dissociation and diffusion near the Si<111>/a-SiO2 interface: Understanding degradation in MOSFETs

  1. Sheikholeslam, S.A.
  2. Manzano, H.
  3. Grecu, C.
  4. Ivanov, A.
Zeitschrift:
Superlattices and Microstructures

ISSN: 1096-3677,  0749-6036

Datum der Publikation: 2018

Ausgabe: 120

Seiten: 561-568

Art: Artikel

DOI: 10.1016/J.SPMI.2018.06.018 GOOGLE SCHOLAR

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