Removal probability function for Kinetic Monte Carlo simulations of anisotropic etching of silicon in alkaline etchants containing additives
- Zhang, H.
- Xing, Y.
- Gosálvez, M.A.
- Pal, P.
- Sato, K.
Zeitschrift:
Sensors and Actuators, A: Physical
ISSN: 0924-4247
Datum der Publikation: 2015
Ausgabe: 233
Seiten: 451-459
Art: Artikel
