Evolutionary determination of kinetic Monte Carlo rates for the simulation of evolving surfaces in anisotropic etching of silicon

  1. Xing, Y.
  2. Gosálvez, M.A.
  3. Sato, K.
  4. Tian, M.
  5. Yi, H.
Revista:
Journal of Micromechanics and Microengineering

ISSN: 0960-1317,  1361-6439

Año de publicación: 2012

Volumen: 22

Número: 8

Tipo: Artículo

DOI: 10.1088/0960-1317/22/8/085020 GOOGLE SCHOLAR

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