Proyecto de investigación
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Equipo de microesculpido por ataque en seco mediante plasma de iones reactivos Reactive Ion Etching (RIE)
date_range
Duración del 01 de enero de 2011 al 31 de diciembre de 2011
(12 meses)
Finalizó
Convocatoria:
INFRAESTRUCTURA GRUPOS A GOBIERNO VASCO