Anisotropic wet chemical etching of crystalline silicon: Atomistic Monte-Carlo simulations and experiments

  1. Gosalvez, M.A.
  2. Nieminen, R.M.
  3. Kilpinen, P.
  4. Haimi, E.
  5. Lindroos, V.
Revista:
Applied Surface Science

ISSN: 0169-4332

Año de publicación: 2001

Volumen: 178

Número: 1-4

Páginas: 7-26

Tipo: Artículo

DOI: 10.1016/S0169-4332(01)00233-1 GOOGLE SCHOLAR
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