Atomistic simulations of surface coverage effects in anisotropic wet chemical etching of crystalline silicon

  1. Gosálvez, M.A.
  2. Foster, A.S.
  3. Nieminen, R.M.
Revista:
Applied Surface Science

ISSN: 0169-4332

Año de publicación: 2002

Volumen: 202

Número: 3-4

Páginas: 160-182

Tipo: Artículo

DOI: 10.1016/S0169-4332(02)00903-0 GOOGLE SCHOLAR
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