An improved anisotropic wet etching process for the fabrication of silicon MEMS structures using a single etching mask

  1. Pal, P.
  2. Sato, K.
  3. Gosalvez, M.A.
  4. Shikida, M.
Actas:
Proceedings of the IEEE International Conference on Micro Electro Mechanical Systems (MEMS)

ISSN: 1084-6999

ISBN: 9781424417933

Año de publicación: 2008

Páginas: 327-330

Tipo: Aportación congreso

DOI: 10.1109/MEMSYS.2008.4443659 GOOGLE SCHOLAR
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