Orientation- and concentration-dependent surfactant adsorption on silicon in aqueous alkaline solutions: Explaining the changes in the etch rate, roughness and undercutting for MEMS applications

  1. Gosálvez, M.A.
  2. Tang, B.
  3. Pal, P.
  4. Sato, K.
  5. Kimura, Y.
  6. Ishibashi, K.
Revista:
Journal of Micromechanics and Microengineering

ISSN: 0960-1317 1361-6439

Año de publicación: 2009

Volumen: 19

Número: 12

Tipo: Artículo

DOI: 10.1088/0960-1317/19/12/125011 GOOGLE SCHOLAR

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