Orientation- and concentration-dependent surfactant adsorption on silicon in aqueous alkaline solutions: Explaining the changes in the etch rate, roughness and undercutting for MEMS applications
- Gosálvez, M.A.
- Tang, B.
- Pal, P.
- Sato, K.
- Kimura, Y.
- Ishibashi, K.
ISSN: 0960-1317, 1361-6439
Año de publicación: 2009
Volumen: 19
Número: 12
Tipo: Artículo