Evidence for faster etching at the mask-substrate interface: Atomistic simulation of complex cavities at the micron-/submicron-scale by the continuous cellular automaton
- Gosálvez, M.A.
- Ferrando, N.
- Fedoryshyn, Y.
- Leuthold, J.
- McPeak, K.M.
ISSN: 1361-6439, 0960-1317
Año de publicación: 2016
Volumen: 26
Número: 4
Tipo: Artículo