Introducing a new radical trifluoromethylation reagent

  1. Sato, A.
  2. Han, J.
  3. Ono, T.
  4. Wzorek, A.
  5. Aceña, J.L.
  6. Soloshonok, V.A.
Revista:
Chemical Communications

ISSN: 1364-548X 1359-7345

Año de publicación: 2015

Volumen: 51

Número: 27

Páginas: 5967-5970

Tipo: Artículo

DOI: 10.1039/C5CC00905G GOOGLE SCHOLAR