Characterization of the radical oxidative level in the degradation of phenolic compounds with H2O2/UV

  1. De Luis, A.
  2. Lombraña, J.I.
  3. Menéndez, A.
Revista:
Journal of Advanced Oxidation Technologies

ISSN: 1203-8407

Año de publicación: 2008

Volumen: 11

Número: 1

Páginas: 21-32

Tipo: Aportación congreso

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