Nanostructured polymeric surfaces by different patterning techniques

Resumen

En esta tesis se recoge el trabajo que se ha llevado a cabo en el campo del estructurado de superficies poliméricas centrado en el uso de técnicas que usan como proceso de impresión del motivo el fotocurado de resinas basadas en el polihidroxiestireno, la infiltración o la ablación sobre sustratos capas y films de Poliestireno y derivados nativos, así como de mezclas de estos con copolímeros en bloque derivados del Poliestireno como, el copolímero en bloque de Poliestireno con poliácido acrílico (PS-b-PAA) con grupos químicos carboxilos, lo que aporta a la matriz de Poliestireno un carácter polar o de Poliestireno con 2,3,4,5,6-pentafluoroestireno (PS-b-P5FS) con los protones del anillos bencílicos sustituidos por flúor y así darle un mayor carácter no polar que el del Poliestireno. Con este trabajo se ha buscado imprimir motivos con detalles comprendido en el rango de los nanómetros a los micrómetros. Estas técnicas se han aplicado sobre sustratos de fotoresina o de PS nativas así como mezcladas con PS-b-PAA y P5FS-b-PS, con el fin de comparar el comportamiento de los sustratos ante estas técnicas. Además, como condición, se ha buscado que las técnicas se puedan aplicar de modo complementario con el fin, ya en proyectos futuros, conseguir estructuras jerarquizadas. Con esto se desea desarrollar superficies con motivos de un tamaño que por asociación formen el motivo para la siguiente escala.