Forschungsprojekt
0 .
Equipo de microesculpido por ataque en seco mediante plasma de iones reactivos Reactive Ion Etching (RIE)
date_range
Dauer von 01 von Januar von 2011 bis 31 von Dezember von 2011
(12 Monate)
Fertig
Bekanntmachung:
INFRAESTRUCTURA GRUPOS A GOBIERNO VASCO