Fluctuations during anisotropic etching: Local recalibration and application to si{110}

  1. Gosalvez, M.A.
  2. Li, Y.
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  6. Xing, Y.
Zeitschrift:
Journal of Microelectromechanical Systems

ISSN: 1057-7157

Datum der Publikation: 2016

Ausgabe: 25

Nummer: 4

Seiten: 788-798

Art: Artikel

DOI: 10.1109/JMEMS.2016.2562026 GOOGLE SCHOLAR

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